Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

dialnet-ar-18-ART0000388160

dialnet

Dialnet

Dialnet AR

Salud de los Trabajadores, ISSN 1315-0138, Vol. 18, Nº. 2, 2010, pags. 107-116

Spanish

Benceno
Tolueno
Exposición ocupacional
Pintura
Solventes
Benzene
Toluene
Occupational exposure
Paint
Solvents

Benceno
Tolueno
Exposición ocupacional
Pintura
Solventes
Benzene
Toluene
Occupational exposure
Paint
Solvents
Brizuela, Julissa
Jiménez, Ygmar
Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

Worldwide, the problem of exposures to solvents are focused on benzene and its derivatives, which are considered hazardous to health even at low concentrations. As a supplement to an environmental monitoring study of benzene and toluene, previously conducted at an automotive paint manufacturing company, the objective of this study was to measure urinary phenol and hippuric acid levels, as biological indicators of occupational exposure to benzene and toluene, respectively. The design was cross-sectional and involved 43 male workers (25 exposed and 18 non-exposed). A questionnaire was administered, and post-shift urine samples were obtained and analyzed by gas chromatography for phenol concentratons and by spectrophotometry for hippuric acid concentrations. We found that, among exposed workers, mean urinary phenol was 5.54 mg / g-creatinine, significantly lower (p<0,05) than the allowable biological exposure index (BEI: 50 mg / g-creatinine). For hippuric acid, the mean concentration was 325 mg/ l, also significantly lower (p<0,05) than the corresponding BEI for this metabolite (up to 1400 mg / l). No significant differences in urinary phenol and hippuric acid concentrations were found between the exposed and non-exposed groups (P>0,05). These results confirm that employees at this company are working under appropriate conditions.

Article

Brizuela, Julissa
Jiménez, Ygmar

Brizuela, Julissa
Jiménez, Ygmar

Brizuela, Julissa

Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotriz

Instituto de Altos Estudios en Salud Pública "Dr. Arnaldo Gabaldón"

2010

https://dialnet.unirioja.es/servlet/oaiart?codigo=3415486

1709709620221575168

dialnet-ar-18-ART00003881602020-06-04Niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico en trabajadores de una empresa de pintura automotrizBrizuela, JulissaJiménez, YgmarBencenoToluenoExposición ocupacionalPinturaSolventesBenzeneTolueneOccupational exposurePaintSolventsWorldwide, the problem of exposures to solvents are focused on benzene and its derivatives, which are considered hazardous to health even at low concentrations. As a supplement to an environmental monitoring study of benzene and toluene, previously conducted at an automotive paint manufacturing company, the objective of this study was to measure urinary phenol and hippuric acid levels, as biological indicators of occupational exposure to benzene and toluene, respectively. The design was cross-sectional and involved 43 male workers (25 exposed and 18 non-exposed). A questionnaire was administered, and post-shift urine samples were obtained and analyzed by gas chromatography for phenol concentratons and by spectrophotometry for hippuric acid concentrations. We found that, among exposed workers, mean urinary phenol was 5.54 mg / g-creatinine, significantly lower (p<0,05) than the allowable biological exposure index (BEI: 50 mg / g-creatinine). For hippuric acid, the mean concentration was 325 mg/ l, also significantly lower (p<0,05) than the corresponding BEI for this metabolite (up to 1400 mg / l). No significant differences in urinary phenol and hippuric acid concentrations were found between the exposed and non-exposed groups (P>0,05). These results confirm that employees at this company are working under appropriate conditions.La problemática mundial de exposición a solventes se centra en torno al benceno y sus derivados, considerados peligrosos a la salud aún en bajas concentraciones. Con el propósito de complementar un estudio de monitoreo ambiental para benceno y tolueno, realizado previamente en una empresa de manufactura de pintura automotriz, se planteó como objetivo de esta investigación, determinar los niveles urinarios de fenol y ácido hipúrico, considerados indicadores biológicos para la exposición ocupacional a benceno y tolueno. Se llevó a cabo un estudio descriptivo de corte transversal, en 43 trabajadores del sexo masculino (25 expuestos y 18 no expuestos). Se aplicó una encuesta, se tomaron muestras de orina al final de jornada, se midieron las concentraciones de fenol por cromatografía de gases y ácido hipúrico por un método espectrofotométrico. Se hizo el análisis estadístico y comparación de grupos. Se encontró que en el grupo expuesto el nivel medio de fenol urinario fue 5,54 mg/g-creat, significativamente por debajo (p<0,05) del índice biológico aceptado (BEIs: hasta 50 mg/g-creat). Para el ácido hipúrico se obtuvo 325 mg/l como nivel medio, significativamente inferior (p<0,05) al BEI fijado para este metabolito (hasta 1400 mg/l). No se encontraron diferencias significativas para los valores de fenol y ácido hipúrico urinario entre el grupo expuesto y el grupo no expuesto (P>0,05). Estos resultados confirman que los trabajadores de la empresa en estudio están laborando bajo condiciones adecuadas.Instituto de Altos Estudios en Salud Pública "Dr. Arnaldo Gabaldón"2010text (article)application/pdfhttps://dialnet.unirioja.es/servlet/oaiart?codigo=3415486(Revista) ISSN 1315-0138Salud de los Trabajadores, ISSN 1315-0138, Vol. 18, Nº. 2, 2010, pags. 107-116spaLICENCIA DE USO: Los documentos a texto completo incluidos en Dialnet son de acceso libre y propiedad de sus autores y/o editores. Por tanto, cualquier acto de reproducción, distribución, comunicación pública y/o transformación total o parcial requiere el consentimiento expreso y escrito de aquéllos. Cualquier enlace al texto completo de estos documentos deberá hacerse a través de la URL oficial de éstos en Dialnet. Más información: https://dialnet.unirioja.es/info/derechosOAI | INTELLECTUAL PROPERTY RIGHTS STATEMENT: Full text documents hosted by Dialnet are protected by copyright and/or related rights. This digital object is accessible without charge, but its use is subject to the licensing conditions set by its authors or editors. Unless expressly stated otherwise in the licensing conditions, you are free to linking, browsing, printing and making a copy for your own personal purposes. All other acts of reproduction and communication to the public are subject to the licensing conditions expressed by editors and authors and require consent from them. Any link to this document should be made using its official URL in Dialnet. More info: https://dialnet.unirioja.es/info/derechosOAI